化学气相沉积（CVD）设备是采用化学气相沉积工艺在衬底表面生成高纯致密、高性能的涂层薄膜的热工设备。CVD技术具有沉积速率高、成膜易控制、均匀性和重复性好、台阶覆盖优良、使用范围广、设备简单等优点，工业领域已广泛应用于SiC、TaC、HfC、PyC等多种薄膜涂层制备。必发888登录入口凭借深厚的CVD工艺控制技术、真空热工技术、气流温度耦合场仿真技术积累，致力于为半导体新材料、新能源光伏等领域开发多种类型的CVD设备。必发888登录入口开发的先进PyC、SiC、BN、Re等涂层设备，凭借优秀的设备技术性能和工艺产能优势，获得国内行业主流客户的高度认可，成为行业客户扩产的优选设备。